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湿法清洗设备
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湿法清洗设备
ACM Ultra C SAPS 单片清洗设备
ACM主要开展半导体设备研究、开发、设计、制造、销售以及售后服务等业务，专注于湿法工艺设备，包括：无应力抛光设备，电化学镀铜设备和单片兆声清洗设备。盛美半导体设备设备拥有完善的自主产权和相关专利，目前申请超过140项国际及国内专利，并有超过60项已获得授权。
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